?半導體是指室溫下電導率介于導體和絕緣體之間的材料。在半導體加工過程中，會產生一種氮氧化物的工業廢氣。今天學習廢氣處理關于半導體的工業氮氧化物。

半導體工業廢氣，NOx 廢氣處理

氮氧化物分為一氧化二氮(N2O)、一氧化氮(NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化氮(N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)等。氮化物在光照、潮濕或受熱時會變成二氧化氮和一氧化氮，一氧化氮又會變成二氧化氮。不同價格的氮化物毒性不同。

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關于半導體的工業氮氧化物的廢氣處理問題?

常見的半導體原料有硅、鍺、砷化鎵等。加工廠的主要污染物有一氧化氮、一氧化二氮、二氧化氮、一氧化二氮、一氧化二氮、一氧化二氮、HF等。

半導體氮氧化物廢氣采用燃燒控制技術、煙氣脫硝技術和爐內吸收劑噴射。Industrial 廢氣處理 NOx一般在工藝后處理，脫除技術可分為兩類:干法包括催化還原、催化分解和吸附，干法包括催化還原、催化分解和吸附。

與干法相比，濕法具有水處理工藝簡單、吸收劑種類多、運行成本低、適應性強等優點。